未来科学オープンセミナーでは、東北大学未来科学技術共同研究センターで行っている研究の成果や独創的な開発研究を、分かりやすくご紹介いたします。

開催概要

講演題目：
半導体の高性能化を担うフォトレジストとは
―半導体フォトレジストの開発現況と半導体産業の動向―

日　　時：2025年1月7日（火）
13:30開場 14:00開始

開催形式：現地開催＋オンライン

会　　場：未来科学技術共同研究センター本館5階大会議室

申込方法：申込フォームから

申込締切：2025年1月6日（月）

• 詳細（東北大学未来科学技術共同研究センターウェブサイト）
• 申込フォーム

主催等

主催：未来科学技術共同研究センター

協賛：日本工学アカデミー東北支部?北海道支部

問い合わせ先

未来科学技術共同研究センター開発企画部
未来科学オープンセミナー事務局
TEL：022-795-4004
Email：mirai*ml.niche.tohoku.ac.jp（*を@に置き換えてください）