2018定 | プレスリリ`ス?冩梢撹惚
肝弊旗篁メモリ`の仟可創を_k 階詰M薦でのデ`タきzみが辛嬬に
k燕のポイント
- 愔寛珍呂箸歪罎鈴殘慚圓魍屬調諒栖音]k來メモリ喘の仟可創_kに撹孔。
- 書指_kした仟可創を喘いることで、デ`タQえrのM薦を寄嫌に詰pできることを_J。
古勣
|臼寄僥寄僥垪垢僥冩梢親岑嬬デバイス可創僥好のx表蚓甓平瘁豚n殻僥伏(晩云僥g尅d氏蒙e冩梢T)と儲v望彈縮娩らの冩梢グル`プは、屡贋可創とは剃の殘慚圓鯤召肱篁可創Cr2Ge2Te6の_kに撹孔しました。
フラッシュメモリの渊腓鯀蔡{する、肝弊旗音]k來メモリとして、篁メモリPCRAMが廣朕されています。しかしながら、F佩のPCRAMに聞われている可創は、塚痂圓詰く、デ`タをきQえるHのM薦が互いことがn}となっていました。
書指_kした可創を喘いて恬uした篁メモリ(殆徨)は、フラッシュメモリを貧指る互梁デ`タ隠隔來や互堀嘛來をS隔しつつ、デ`タきzみのM薦を寄嫌に詰pできること90ヒ塢錬をg^しました。云撹惚は、アメリカ晒僥氏の僥gIACS Applied Materials & Interfacesに2018定1埖11晩晩云rgにdされました。
猟秤
タイトルInverse resistance change Cr2Ge2Te6-based PCRAM enabling ultralow-energy amorphization
广宀Shogo Hatayama, Yuji Sutou, Satoshi Shindo, Yuta Saito, Yun-Heub Song, Daisuke Ando and Junichi Koike
dIACS Applied Materials & Interfaces
URL: http://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/acsami.7b16755
(a) 云冩梢で恬uしたh殆徨の嘛蒙來。Cr2Ge2Te6では、詰丘森彜Bがアモルファス燹互丘森彜BがY唱爐魍覆垢襦I弌Cr2Ge2Te6では30ns、GSTでは50nsでのRパルス嫌で嘛を佩った。
(b) (a)のY惚よりeもられたデ`タきQえに駅勣な嘛エネルギ`。
い栽わせ枠
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