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3rd Intensive Discussion on Growth of Nitride Semiconductors(IDGN-3)(1/16-18開催)

プログラム

窒化物半導体デバイスは、これまでに高輝度LEDによる白色照明の省エネに貢献してきました。この材料はパワーデバイス用途においても省エネが期待されています。しかし、高出力動作を実現するためには、結晶品質の向上が必須で、材料開発が求められています。

本ワークショップでは、結晶成長をはじめ、評価技術、デバイスプロセスなど様々な分野の専門家を招待し、デバイス性能を向上させるための課題について議論を行います。

日時:2017年1月16日(月)- 2017年1月18日(水)

会場:東北大学 金属材料研究所 2号館講堂

申し込み方法:
事前にメールにて参加申し込みをお願いいたします。
[E-mail] tanikawa*imr.tohoku.ac.jp (*を@に置き換えてください)

参加費:20,000円(学生は無料)

問い合わせ先

東北大学金属材料研究所
電子材料物性学研究部門 谷川 智之
TEL:022-215-2621
E-mail:tanikawa*imr.tohoku.ac.jp(*を@に置き換えてください)

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