東北大学多元物質科学研究所の進藤大輔教授（理化学研究所客員主管研究員）と理化学研究所グループディレクター外村彰博士（日立フェロー、沖縄科学技術大学院大学教授）らの研究グループは、最新の電子線ホログラフィー技術により、高温超伝導バルク材料周辺の磁束分布を観察し、磁束量子が析出物にピン止めされている様子を３次元的に観察することに初めて成功しました。バルク超伝導材料の内部に分散させた非超伝導の析出物に磁束がピン止めされることにより高い臨界電流密度が得られるものと考えられてきましたが、その様子を実際に直接観察したもので、今後、超伝導の臨界電流密度や強力な磁石としての磁気特性の向上を図る上で、極めて有効な研究成果と位置づけられています。この析出物に磁束量子がピン止めされた写真は、昨年日本金属学会の金属組織写真展で最優秀賞を受賞しましたが、温度や印加磁場を変えた際の磁束分布の変化の様子を捉えた詳細な研究成果が２月９日付で米国応用物理の雑誌のインターネット版に発表されました。

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