みずほ情報総研は、東北大学の寒川誠二教授の技術協力の下、プラズマプロセスに おける基板表面の状態を詳細に把握し、製造工程の検討や製造装置の開発を支援する 解析サービスを開始します。本解析サービスでは、寒川教授の開発したオンウェハセ ンサーを用いたモニタリング技術により、加工基板表面で反応に寄与する活性種（電 子、イオン、フォトンなど）の状態を測定し、そのデータを用いたシミュレーション を行うことで、プラズマプロセスにおける加工形状および損傷予測解析をより高精度 に行うことを可能とします。

本解析サービスを用いることで、プラズマプロセスの検討や製造装置の開発における コスト?期間が低減されるほか、デバイス自体の品質向上、製品の製造工程での歩留 まりの向上にも寄与すると考えられます。最終的には、CPUやメモリ、ストレージと いったコンピュータで使用される部品のほか、携帯電話やテレビなどのAV機器、自動 車や医療分野で利用される各種センサーといった、エレクトロニクス技術を用いる多 くの商品開発の場面で、低価格化だけではなく、処理能力の向上や小型化、低消費電 力化などにもつながるものです。

詳細

[問い合わせ先]

流体科学研究所　流体融合センター　知的ナノプロセス研究分野　教授　寒川　誠二 　　　　　　

Tel：022-217-5240　

E-mail：samukawa*ifs.tohoku.ac.jp（*を@に置き換えて下さい）